TSMC: переход от 7 нм к 5 нм повышает плотность размещения транзисторов на 80 %
Компания TSMC на этой неделе уже анонсировала освоение новой ступени литографических технологий, получившей условное обозначение N6. В пресс-релизе сообщалось, что данная ступень литографии будет доведена до стадии рискового производства к первому кварталу 2020 года, но только стенограмма квартальной отчетной конференции TSMC позволила узнать новые подробности о сроках...
подробнее ›