«Китайский» 7-нм техпроцесс может существенно подорожать
Некоторое время назад крупнейший в Китае контрактный производитель полупроводников компания SMIC начал строить линию для выпуска 7-нм чипов. Увы, расчет на западных партнеров провалился. В марте нидерландская компания ASML поставила SMIC партию обычных 193-нм сканеров, но сканеры диапазона EUV до Китая не дошли. Это означает, что себестоимость производства чипов с использованием 7-нм "китайского" техпроцесса окажется дорогим удовольствием.
Компания SMIC разрабатывает 7-нм техпроцесс с учетом использования в производстве сканеров EUV с длиной волны 13,5 нм. Если она так и не сможет получить эти сканеры от ASML, то ей придется выпускать 7-нм чипы с использованием 193-нм сканеров, но эта операция потребует минимум в четыре больше технологических шагов при обработке каждого слоя микросхемы, чем в случае 7-нм техпроцесса с использованием сканеров EUV (как это делают TSMC и Samsung, например).
Из-за проблем с поставками в Китай сканеров EUV техпроцесс с нормами 7 и 8 нм "не так хорош и будет готов не так скоро, как планировалось", сообщают китайские источники. "Решить можно любые технологические проблемы? практически все, кроме наличия литографического оборудования для выпуска чипов".
Как вариант, до внедрения 7-нм техпроцесса компания SMIC может внедрить на производстве улучшенные версии 14-нм техпроцесса и техпроцесс с нормами 12 нм. Для 14-нм техпроцесса компания разрабатывает улучшенные модификации "N+1" и "N+2". Техпроцесс "N+1" по сравнению с 14-нм техпроцессом сможет предложить на 20 % большую производительность и на 57 % меньшее потребление (скорее всего одно или другое), а также на 63 % снизить площадь, занимаемую логическими схемами (общая площадь SoC снизится на 55 %). Техпроцесс "N+2" позволит выпускать еще более быстрые чипы, но пока подробности о нем отсутствуют.
Как сообщают источники, техпроцесс "N+1" изучается клиентами компании и будет готов для массового выпуска чипов в четвертом квартале этого года. Что касается 12-нм техпроцесса, то он, по сравнению с 14-нм техпроцессом, предложит 10-процентный рост производительности и 20-процентное снижение потребления. Техпроцесс с норами 12 нм выглядит не таким прогрессивным, как "N+1", но это можно списать на то, что информация о спецификациях курсирует на уровне слухов. По мере появления подробностей будем уточнять сведения.
