К 2023 году у Китая будут собственные литографические сканеры для 20-нм технологии
Американские санкции, направленные против Huawei и SMIC, своей целью имеют прекращение доступа китайских компаний к новейшим литографическим технологиям. Попытки китайских производителей перейти на импортозамещение увенчаются успехом к концу следующего года, но ограничатся лишь оборудованием, пригодным для 28-нм технологии.
В Китае с 2002 года работает компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE), недавно стало известно, что она представит свой литографический сканер второго поколения к четвертому кварталу 2021 года. Это оборудование будет использовать погружную литографию с глубоким ультрафиолетовым излучением с длиной волны 193 нм и лазером на основе фторида аргона. Западные компании типа TSMC и Intel такое оборудование начали использовать еще в 2004 году, поэтому китайские сканеры нельзя будет назвать передовыми в мировом масштабе, но они хотя бы позволят китайцам к 2023 году наладить выпуск 20-нм продукции без использования технологий американского происхождения.
Полностью избавиться от импортируемых комплектующих SMEE не сможет, но она хотя бы ограничится компонентами японского производства, на которые не будут распространяться американские санкции. Китайским клиентам SMEE потребуется некоторое время, чтобы адаптировать свои техпроцессы к использованию данного оборудования, поэтому нельзя утверждать, что литографические сканеры нового поколения данной марки сразу же будут взяты на вооружение. Вызывает беспокойство и высокая степень зависимости китайских разработчиков от программного обеспечения американского происхождения, которому пока нет особых альтернатив. На создание конкурентоспособных систем проектирования альтернативного происхождения тоже уйдет какое-то время.
