Исследователи освоили техпроцесс с нормами 1 нм
Исследователи из Брукхейвенской национальной лаборатории Министерства энергетики США установили мировой рекорд, заявив, что ими был освоен техпроцесс с нормами всего 1 нм. Специалисты надеются использовать этот же метод для создания и придания кремнию никогда ранее не используемых свойств. До этого исследователи из Брукхейвена доказали свою концепцию с использованием полиметилметакрилата (органическое стекло) - полимера, обычно используемого в качестве покрытия в литографии. В роли чувствительного резиста учеными был выбран силсесквиоксан водорода.
Исследователи из Брукхейвена использовали электронный микроскоп, чтобы изобразить материал даже в меньших размерах, чем это возможно, с помощью электронно-лучевой литографии. Обычно электронно-чувствительные материалы подвергались сфокусированному пучку электронов, но его характеристики сводились к размерам, способным манипулировать отдельными атомами. В результате появился новый инструмент, способный резко изменить свойства материала, от электропроводности до пропускания света и взаимодействия между ними.
До этого с помощью электронно-лучевой литографии исследователям удавалось получить элементы размерами не более 10 нм. Для этого использовался генератор медленно движущихся частиц, который следовал инструкциям специальной компьютерной программы. Автоматизированный электронный микроскоп дал возможность создать сфокусированный электронный пучок в атомном масштабе, позволяя собирать отдельные атомы в шаблоны.
Команда исследователей планирует использовать новый метод для изучения пределов электронных и фотонных возможностей кремния.
