SK Hynix не отказалась от планов по выпуску DRAM с применением EUV-литографии
В октябре прошлого года стало понятно, что корейская компания SK Hynix готова к внедрению литографии со сверхжестким ультрафиолетовым излучением (EUV) при производстве микросхем оперативной памяти. Предполагалось, что SK Hynix к началу 2021 года освоит выпуск DRAM по техпроцессу 1α нм, и даже пандемия не заставила компанию отказаться от своих планов.
Как отмечает издание The Elec, намерения освоить массовый выпуск оперативной памяти по техпроцессу 1α нм с применением EUV-литографии остались в силе, и теперь SK Hynix даже упоминает условное обозначение памяти этого поколения - Canopus, в честь ярчайшей звезды в созвездии Киля. Массовое производство такой памяти будет налажено в следующем году, сейчас ведется подготовка. Во втором полугодии, помимо того, SK Hynix собирается увеличить долю оперативной памяти с техпроцессами 1y и 1z нм до 40 % от производственной программы.
Для SK Hynix проект Canopus имеет огромное значение, поскольку он определит, сможет ли компания выпускать микросхемы оперативной памяти с применением EUV-литографии по разумной себестоимости. Именно высокие затраты отпугивают от подобного шага компанию Micron, которая не считает нужным следовать примеру SK Hynix до 2023 года, как минимум. Высокие начальные затраты на освоение EUV в массовом производстве в дальнейшем компенсируются снижением текущих расходов, поскольку для изготовления микросхемы требуется меньшее количество технологических этапов и оснастки.
