IBM объявила о создании пятинанометрового чипа
Американская компания IBM совместно с Global Foundries и корейской Samsung разработала самый тонкий на сегодняшний день техпроцесс изготовления полупроводниковых чипов, при котором разрешение литографического оборудования составляет пять нанометров. Сообщает со ссылкой на Science Alert.
"Это большое развитие. Если я могу сделать транзистор менее, я получаю больше транзисторов на той же площади, что означает, что я получаю больше вычислительной мощности", - подчеркнул один из разработчиков, генеральный директор компании VLSI Research Дэн Хатчесон.
Отмечается, что такое решение позволило вдвое сократить размер транзисторных затворов на современных чипах, а именно - от 10 до 5 нанометров. При этом более тонкий техпроцесс производства чипов позволяет плотнее размещать транзисторы, а это, в свою очередь, дает возможность снизить энергозатраты и увеличить скорость прохождения сигнала. По сравнению с 10-нанометровой технологии, 5-нанометровой может обеспечить увеличение производительности на 40% при таком же энергопотреблении или снижение энергопотребления на 75% при той же производительности.
