Не так поняли: китайская SMIC еще далека от освоения 7-нм техпроцесса

Изданию EE Times China пришлось опровергать опубликованную некоторыми СМИ информацию о готовности китайской компании SMIC наладить к четвертому кварталу текущего года выпуск 7-нм продукции. Китайская промышленность пока совершенствует 14-нм технологию, а о внедрении EUV может только мечтать.

Около полутора недель назад западные средства массовой информации сообщили о намерениях китайской компании SMIC наладить на своих предприятиях выпуск 7-нм полупроводниковых изделий к четвертому кварталу текущего года. Представителям EE Times пришлось связаться с сотрудниками SMIC, чтобы устранить это недоразумение.

Начнем с того, что сейчас SMIC использует первое поколение 14-нм технологии, а к концу года рассчитывает освоить второе. В терминологии китайского производителя оно обозначается как "N + 1", и по своим качествам может лишь частично соперничать с 7-нм техпроцессом мировых лидеров. По словам представителей SMIC, второе поколение 14-нм технологии может приблизиться к 7-нм предложениям конкурентов только с точки зрения энергопотребления и стабильности, а по уровню быстродействия ему до соперников далеко.

Действительно, переход к усовершенствованному 14-нм техпроцессу позволит SMIC, по ее собственным оценкам, увеличить быстродействие транзисторов примерно на 20 %, а до конкурентов ей останется еще около 35 %. Зато по себестоимости 14-нм изделия SMIC второго поколения будут на 10 % доступнее, чем решения конкурентов, выпускаемые по 7-нм технологии. Для китайских заказчиков услуги последних вообще могут оказаться недоступными в силу сложной политической обстановки, поэтому любой прогресс на уровне "национальной литографии" будет ими восприниматься доброжелательно.

Важно, что второе поколение 14-нм техпроцесса в исполнении SMIC позволяет снизить уровень энергопотребления на 57 %, а занимаемая кристаллом площадь способна сократиться на величину от 55 до 63 %. Для выпуска 14-нм продуктов второго поколения SMIC не понадобится литографическое оборудование, использующее лазер со сверхжестким ультрафиолетовым излучением (EUV). Если политические барьеры не помешают SMIC получить EUV-сканеры ASML, то данный тип литографии будет внедрен уже в следующем поколении продукции китайской компании.

ASML